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    2. ASML CFO :繼續供貨中國!ASML是歐洲公司,DUV光刻機不受美國影響!

      2022-10-20 12:45:02 來源:EETOP

      EETOP編譯自tomshardware

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      ASML 周三公布了創紀錄的收入和利潤,盡管個人電腦和智能手機銷售放緩,但對芯片生產設備的需求創下紀錄。隨著芯片制造商繼續投資于晶圓廠設備 (WFE),該公司的產品積壓 - 包括深紫外 (DUV) 光刻光刻機和極紫外 (EUV) 光刻工具 - 現在已超過 380 億美元。ASML 繼續向中國客戶銷售其 DUV 工具。此外,所有當前的 EUV 客戶都致力于使用高 NA EUV 工具。 

      由于芯片制造商繼續投資晶圓廠設備(WFE),該公司積壓的產品——包括深紫外(DUV)光刻光刻機和極紫外(EUV)光刻工具——現在超過380億美元。同時ASML表示不受美國制裁影響,繼續向中國客戶銷售其DUV工具。此外,目前所有EUV客戶都承諾使用High-Na級EUV工具。

      創紀錄的需求

      ASML第三季度銷售額為58億歐元,銷售了80臺新的光刻系統和6臺二手光刻機,包括12臺EUV設備(與第二季度一致)和74臺DUV機器(少于第二季度的79臺)。

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      該公司本季度利潤達到 29.94 億歐元,毛利率達到 51.8%。臺積電的一些客戶更喜歡所謂的快速發貨——這種發貨過程省略了在 ASML 工廠的一些測試,并將最終測試和正式驗收帶到客戶現場——因此該公司 2022 年第三季度的部分銷售額將在下一季度得到確認。  

      盡管對 PC、智能手機和消費電子芯片的需求越來越弱,但芯片制造商預計其產品的銷售額將在 2024 年至 2025 年開始增長,屆時他們將需要安裝工具的新產能。目前,英特爾、美光、三星和 SK 海力士等領先公司正在建設多個晶圓廠,這些晶圓廠將在未來幾年需要設備。對于 ASML 而言,這意味著第三季度約 89 億歐元的創紀錄預訂量,其中 38 億歐元是 EUV 光刻工具,包括具有 0.33 數值孔徑的工具以及具有 0.55 數值孔徑的高 NA 系統。

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      截至今天,ASML 的積壓訂單超過 380 億美元(高于第二季度的 330 億美元),其中包括 600 多臺 DUV 光刻機和 100 多臺 EUV光刻機。  

      ASML 首席財務官羅杰·達森( Roger Dassen)表示:“85% 的訂單確實是用于 EUV 和浸入式的,因此真正迎合了半導體制造中更先進和更具戰略性的部分?!?nbsp;“他們確實也在建設 2023 年之后的產能。還有我們一直在談論的技術主權的因素。事實上,各國政府希望在其半導體制造方面更加自給自足。因此,這些長期趨勢仍然非常完整,我認為這創造了一個我們所看到的情況,即大部分客戶確實仍然在推動我們盡早獲得工具,而不是晚些時候。"

      該公司需要數年時間才能交付這些工具,因為其 2023 年的目標產能是超過 375 臺 DUV 機器和超過 60 臺 EUV 機器。 

      ASML 預計第四季度凈銷售額在 61 億歐元至 66 億歐元之間,毛利率約為 49%,”ASML 首席執行官 Peter Wennink 表示?!拔覀冾A計全年收入為 211 億歐元,毛利率接近 50%?!?/span>

      ASML 繼續向中國發貨

      與美國的 WFE 供應商不同,由于美國對中國半導體行業實施制裁,禁止美國芯片生產技術在沒有美國商務部特別出口許可證的情況下運往中國,ASML 并未降低其第四季度的預期。 

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      ASML的首席財務官羅杰·達森說,ASML總部位于荷蘭,在其DUV工具中并未使用很多在美國設計或生產的零部件,因此即使不是全部,它也可以將大部分DUV工具運往中芯國際、華宏和長江存儲等中國大陸公司。

      "我們仍在評估美國對中國芯片行業的限制,"Dassen說。"我們是一家歐洲公司,我們的設備中使用的美國技術有限,我們的初步認識是,這對我們的直接影響是相當有限的。我們可以繼續將非EUV光刻工具從歐洲運往中國。"

      不過ASML 目前依然無法將 EUV 光刻機運送給其中國客戶,現在也無法將它們運送到中國,因為他們使用的是在美國設計和生產的 Cymer 光源。

      所有EUV客戶都會遷移到High NA EUV

      本季度ASML的更多好消息是其第一臺商用High NA光刻機Twinscan EXE:5200的額外訂單。其中至少有一個訂單來自其目前的EUV客戶,該客戶之前沒有訂購這種工具,這意味著所有使用(或計劃使用)數值孔徑為0.33的極紫外光刻技術的公司最終將遷移到下一代0.55NA的EUV光刻技術。

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      此前該公司表示,三個 Logic 和兩個 Memory 客戶訂購了其 High-NA 光刻機,雖然 ASML 沒有透露其 0.55 NA EUV 客戶的名稱,但我們可以推斷這意味著 Intel、三星代工廠和TSMC (Logic)為以及三星和 SK 海力士(內存)。出于顯而易見的原因,ASML 沒有透露其最新的 High-NA EUV 客戶的名稱,但可以合理地假設美光在第三季度訂購了其第一臺 High-NA 光刻機。 

      目前,美光正在美國——猶他州和紐約——建設兩個領先的內存工廠,這些工廠將在 2025 年至 2026 年的時間范圍內開始提高 DRAM 產量。最初,兩家晶圓廠都將使用 Twinscan EXE 0.33 EUV 工具,但最終美光將需要更先進的工具,這就是它需要 0.55 EUV 光刻機的原因。顯然,該公司已經開始為下一代做準備。 

      美光尚未對其 High-NA EUV 承諾發表評論,但我們有理由相信該公司正在期待 ASML 的下一代 High-NA EUV 生產工具。

      總結

      盡管最近幾個月針對個人電腦、智能手機和消費電子產品的邏輯和存儲芯片的需求下降,并且在未來兩個甚至三個季度不太可能反彈,但芯片制造商繼續投資于他們的工廠--從而將他們的資金帶到ASML。對WFE的需求如此之高,以至于ASML的先進設備積壓在第三季度增加到380億美元,或在一個季度內增加50億美元。

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      雖然美國公司現在需要美國 DoC 的特殊出口許可證才能將其晶圓廠設備出售給中國的客戶,但 ASML 認為它可以不受任何限制地將其 DUV 光刻機出口到中國。雖然美國對中國半導體行業的制裁是否會間接打擊 ASML 還有待觀察,但對該公司工具的需求如此強勁,以至于中國客戶可能至少在幾年內都不會完全流失。 

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